防腐型氣相沉積系統(tǒng)  全氟癸基硅烷涂膠機工藝的主要作用

 納米壓印是一種不同于傳統(tǒng)光刻技術的全新圖形轉移技術，其能夠把納米圖形從模板“復制"到基片上，具有產(chǎn)量高、成本低和工藝簡單的優(yōu)點。為實現(xiàn)一些特殊形狀的壓印，需要提供一種具有納米結構的彈性模板。 為了制作納米壓印彈性模板，一般是提供一具有納米壓印結構的母板，繼而將納米壓印膠均勻地涂覆到沉積了抗粘層的母板上，然后再在納米壓印膠層遠離母板的一側涂覆形成有一彈性支撐層，在彈性支撐層固化后，將彈性支撐層與母板分開。然而超疏水層（抗粘層）的制備就是需要將脫模劑（全氟癸基三氯硅烷、全氟辛基三氯硅烷）均勻沉積在母板上。

防腐型氣相沉積系統(tǒng)  全氟癸基硅烷涂膠機技術性能

內(nèi)尺寸：300×300×300、450×450×450，可定制

外箱材質(zhì)： 優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，

內(nèi)部材質(zhì)：內(nèi)腔采用高性能防腐型不銹鋼

原理：疏水劑氣相沉積

溫度范圍 ：30-200℃

真空度： ≤500pa

接觸角：100±5度

電源： AC 220V±10% / 50HZ       

總功率：2.8KW    

操作界面：真彩觸摸屏人機界面

真空泵： 抗腐蝕型無油泵?

保護裝置：超溫保護，漏電保護，過熱保護等

  防腐型氣相沉積系統(tǒng)在半導體，納米壓印、光電、電子行業(yè)硅片、玻璃、石英硬模板等材料，如制備各種微納電子器件、光學器件、光電器件、存儲器、微流體通道、生物芯片等微納結構制備超疏水層方面的應用。