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半導體烘烤設備

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硅片光刻預處理系統，芯片hmds烘箱

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更新日期
2025-09-16

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前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱真空干燥烘箱

前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱涂膠后，晶片須經過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時間越短或溫度越低會使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。

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2025-09-16

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晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱

晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風型水平層流循環方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。Z小限度控制風速距離。

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2025-09-16

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無氧烘箱、防氧化烤箱

無氧烘箱、防氧化烤箱無氧烘箱，在工作時，工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。

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2025-09-16

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無氧烤箱，厭氧烘箱

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2025-09-16

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