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  • 等離子清洗氣相沉積系統  plasma硅烷蒸鍍機
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    2026-03-04
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    等離子真空蒸鍍系統 真空等 離子鍍膜機利用高頻高壓電源在一定的真空環境或特定氣體氛圍中產生等離子體.通過高能離子撞擊材料表面,去除表面的污染物、雜質,使表面粗糙化,增加表面積。從而改變材料表面的化學性質,提高其親水性、粘結性、耐磨性等性能。將增粘劑(或偶聯劑、抗粘劑)氣相沉積在基材(硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料)表面后,經加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將基底表面
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    2025-12-20
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    2025-11-07
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    2025-11-05
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    2025-09-17
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